產(chǎn)品概述
LVD-F1是一款適用于實(shí)驗(yàn)室中CVD或DLCVD實(shí)驗(yàn)的導(dǎo)入液體的一款經(jīng)濟(jì)高效的液體蒸發(fā)輸送系統(tǒng)。其液體流量是通過一個(gè)數(shù)字液體泵來控制，最大流量為10ml/min。液體被蠕動(dòng)泵導(dǎo)入到混氣系統(tǒng)后，被系統(tǒng)里的加熱裝置加熱成蒸汽，然后隨導(dǎo)入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠?qū)С龆喾N液體，比如ETOH, SnCl₄, TiCl4r, SiHCl₃, 和Zn(C₂H₅)₂，還有多種有機(jī)物混合。對(duì)于研究用CVD方法生長納米線和薄膜LVD-F1是一款非常有限的研究設(shè)備。

基本參數(shù)

· 流體和氣體會(huì)在一個(gè)316不銹鋼罐中加熱，此罐已經(jīng)安裝在殼體中，不銹鋼罐加熱最高溫度：550ºC。

· 不銹鋼出氣管出設(shè)置有二次加熱帶，防止蒸汽在輸出過程中冷凝，二次加熱帶加熱最高溫度：200ºC。

· 電壓：220V

· 額定功率：2200W

主要特點(diǎn)
由數(shù)字液體泵來控制液體流量，最大流量為10ml/min。

· 一次不銹鋼罐加熱最高溫度550℃。

· 二次加熱帶加熱最高溫度200℃。

· 用于材料研究中CVD方法生長納米線和薄膜的理想設(shè)備
 

溫控系統(tǒng)
采用PID方式調(diào)節(jié)溫度，可設(shè)置30段升降溫程序

· 溫控儀表中帶有過熱和斷偶保護(hù)

· 儀表控溫精度: +/- 1°C

· 熱電偶型號(hào)：K型