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CVD氣相沉積
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CVD(ChemicalVaporDeposition,化學氣相沉積)是一種用于薄膜沉積的技術。它通過將氣態(tài)化學前驅體反應成固態(tài)沉積物,在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應用于半導體制造、光伏設備、涂層和材料科學等領域。
GSL-1700X-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統(tǒng),它是由二路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組度可達1600℃,極限真空度可達 to 10^-5 torr?;鞖庀到y(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導
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